Copyright 2015-2024 二手车测评网 版权所有 京ICP备18049689号-25 客服QQ：318697669
1月5号，英特尔公司官方媒体表示，已经收到了ASML公司极紫外光刻(EUV)设备的主要组件。这标志着英特尔将开始组装这台机器，并计划在未来几年成为首家使用高数值孔径(NA) EUV设备进行大规模芯片生产的公司。该设备采用0.55的高数值孔径镜头，使芯片制造商能够在处理器上打印比以往更小的特征。
英特尔在俄勒冈州的团队欢迎ASML公司运送的高NA EUV技术的主要组件，这有助于不断推进摩尔定律的发展。ASML的Twinscan EXE光刻工具是一台庞大的机器，分装在250个箱子里，通过13辆卡车分别装载在13个货柜中运送。ASML于12月21日从荷兰费尔德霍芬发出首个货柜，而英特尔则在俄勒冈州希尔斯伯勒附近的基地收到了这些组件。在接下来的几个月中，该工具将在英特尔的D1X Mod3研发工厂组装，公司工程师将在此学习如何使用该工具，利用公司的18A制造技术生产芯片。
高NA EUV光刻机配备了0.55 NA（高NA）镜头，能实现8nm的分辨率，这是对现有EUV工具的重大改进——现有的0.33 NA（低NA）镜头提供13nm分辨率。这种分辨率的提高将对后2nm技术至关重要，这些技术需要低NA EUV双图案化或高NA EUV单图案化。每台EUV高NA扫描仪的预计成本在3亿到4亿美元之间。